中芯国际不负众望,突破先进8nm制程工艺

投稿时间:2020-11-20  消息来源:  提交者:古姿女郎

编者按:虽然说我国的科技发展比较缓慢,但是并不意味着弱小,美国针对华为开展的一系列打压,刺激了中国半导体行业的发展,也让我们看到了弊端的所在,在华为专心承受压力的同时,国内众多的优秀科技企业开始,将所有的精力全身心地投入到芯片研发之中。
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中芯国际是我们国内最出色的芯片制造企业,能够量产14nm的芯片,在国际的所有企业中排名第6,可是凭借这样的实力依旧没有办法突破美国对我国实行的技术封锁,为了能够打破美国布下的牢笼,中芯国际安宣布了自己的最新科研成果,那就是不需要光刻机也能生产芯片的N+1技术。
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根据业内人士分析,新的N+1芯片性能达到台积电的8nm芯片的标准,而未来的N+2芯片的性能,则对标台积电的7nm芯片,N+1芯片的诞生意味着在芯片制造工艺上中,我国已经跻身世界前列。
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如果在这一方面的研究不断取得突破,说不定3~4年后中芯国际真的有可能会取代台积电,再加上北大团队取得的碳芯片成果,中国未来可期,你们对中芯国际的发展怎么看?

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